반도체 및 첨단 제조 산업에서는 공정 안정성과 수질 관리가 생산 수율과 직결되는 핵심 요소이다. 특히 초순수(UPW)를 사용하는 공정 특성상, 극미량의 유기물이나 오염물질도 제품 품질에 영향을 미칠 수 있기 때문에 매우 엄격한 수질 기준이 요구된다.
이러한 공정에서 발생하는 폐수에는 다양한 화학물질과 함께 난분해성 유기물, 미량 오염물질, 그리고 공정 특성에 따라 변화하는 복합 오염 성분이 포함되어 있다. 문제는 이러한 물질들이 기존 생물학적 처리나 물리·화학적 처리 공정만으로는 완전히 제거되기 어렵다는 점이다.
특히 저분자 난분해성 유기물은 기존 RO(역삼투) 공정에서도 완전히 제거되지 않고 일부가 잔류하게 되며, 이는 재이용수의 TOC(Total Organic Carbon) 기준을 만족시키는 데 큰 장애 요소로 작용한다. 또한 공정별 요구 수질이 상이하기 때문에, 단일 공정으로는 다양한 조건을 모두 충족하기 어렵다는 한계도 존재한다.
이로 인해 반도체 공정폐수의 재이용은 단순한 처리 기술을 넘어, 미량 오염물질까지 정밀하게 제어할 수 있는 고도처리 기술이 필수적으로 요구된다.
엔하이텍은 이러한 기술적 한계를 해결하기 위해 자외선(UV)을 기반으로 한 고도산화공정(UV AOP) 기술을 개발하고 있다. UV AOP는 수중에서 강력한 산화력을 갖는 하이드록실 라디칼(•OH)을 생성하여, 기존 공정으로는 분해가 어려운 난분해성 유기물까지 효과적으로 산화·분해할 수 있는 기술이다.
이를 통해 RO 공정 이후에도 잔존하는 미량 유기물을 제거하고, 반도체 공정에서 요구하는 수준의 고품질 재이용수를 안정적으로 확보할 수 있다.
엔하이텍은 이러한 기술을 기반으로 공정폐수의 재이용률을 극대화하고, 공업용수 사용량 절감과 함께 궁극적으로는 무방류(ZLD) 또는 최소방류(MLD) 시스템 구현에 기여하는 것을 목표로 하고 있다. 이는 단순한 수처리를 넘어, 반도체 산업의 지속가능성과 운영 효율성을 동시에 확보하기 위한 핵심 솔루션이 될 것이다.