수처리 분야에서 난분해성 유기물 제거는 오랜 기간 해결되지 않은 핵심 기술 과제였다. 특히 반도체 및 첨단 제조 공정에서는 초순수 수준의 수질이 요구되기 때문에, 기존 공정으로 제거되지 않는 미량 유기물까지 정밀하게 제어해야 한다.
이러한 요구를 충족하기 위해 최근 주목받고 있는 기술이 바로 UV 고도산화공정(UV AOP)이다.
UV AOP는 자외선을 이용해 수중에서 하이드록실 라디칼(•OH)을 생성하고, 이 라디칼이 유기물의 분자 구조를 직접 공격하여 분해하는 방식으로 작동한다. 기존 생물학적 처리나 물리적 분리 공정이 ‘제거’에 초점을 맞춘다면, UV AOP는 오염물질을 근본적으로 ‘분해’한다는 점에서 차별화된다.
특히 저분자 난분해성 유기물과 같이 기존 공정에서 잔류하는 물질에 대해 높은 처리 효율을 보이며, RO 공정 이후 폴리싱(polishing) 단계에서 핵심적인 역할을 수행할 수 있다.
엔하이텍은 이러한 UV AOP 기술을 기반으로, 단순 장비 공급을 넘어 공정별 특성과 수질 조건에 최적화된 설계 및 운전 기술을 함께 개발하고 있다. 이를 통해 다양한 산업 현장에서 안정적으로 적용 가능한 고도 수처리 솔루션을 제공하고 있다.
UV AOP 기술은 반도체뿐만 아니라 디스플레이, 이차전지 등 첨단 산업 전반에서 적용 가능성이 높으며, 향후 물 재이용 및 고도 수처리 시장에서 핵심 기술로 자리잡을 것으로 기대된다.